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混气管式PECVD系统

混气管式PECVD系统

混气管式PECVD系统

多路混气管式PECVD系统,由单温区管式炉、真空系统、质子流量计、射频电源系统系统组成。 混气管式PECVD系统是为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,环

产品概述:

       PT -T1200-S6015LK1-4Z5S多路混气管式PECVD系统,由单温区管式炉、真空系统、质子流量计、射频电源系统系统组成。 混气管式PECVD系统是为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,环境温度在100-300℃,但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解、离解和离化,从而大大提高了反应物的活性,这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上,发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜,因此这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)。
 
 

适用范围:

        设备可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜,并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层、高端装饰等领域。

 

 

产品特点 :

多晶纤维炉膛多晶纤维炉膛,节能耐腐蚀

重量轻、升温速度快、节能、省时、耐高温、耐腐蚀、保温性好,能满足何种快速烧结的要求。
高纯石英炉管炉管采用高纯度石英玻璃材料工艺加工

具有极低的热膨胀系数、耐高温、化学稳定性好、电绝缘性好。
双层内胆炉壳双层内胆炉壳,配有风冷系统,快速升降温

整个炉体采用双层内胆式结构,中间有气隙隔离,即使炉膛温度高达1200℃,炉体表面仍然可以安全触摸无滚烫感觉。
真空法兰法兰采用双环密封技术

有效的提高了法兰的气氛性,法兰上装有多种接头,可接电阻真空计、真空波纹管并能做成容易撤卸的铰链式。
合金电热丝内嵌式合金电热丝,升温快,寿命长

加热元件采用优质内嵌式合金电热丝,发热效率高、耐高温、抗氧化、耐腐蚀、升温快、寿命长、高温变形小、安装维修方便,使用寿命长。
微电脑PID控制器微电脑PID控制器,操作简便

操作简便,控温精确、可靠、安全多段可编程控制,可以简化复杂的试验过程,真正实现自动控制和运行。
炉体配有:输出电压和输出电流监测表,炉子加热状态一目了然了。
高真空分子泵组真空系统采用高真空分子泵组,性能卓越

性能可靠:整体型复合转子,强度高、性能稳定;
洁净无油:采用脂润滑精密陶瓷轴承,无油蒸汽污染。

 

 

标准配件:

4路质子流量计 真空系统 射频电源

质子流量计×1

真空系统×1 射频电源×1
气炼石英炉管 真空法兰 热电偶
气炼石英炉管×1 真空法兰×1 防烫罩×2
高温手套 坩埚钩 热电偶
高温手套×1 坩埚钳×1 热电偶×1
刚玉坩埚 炉塞 马弗炉中文说明书
刚玉坩埚×2 炉塞×2 中文说明书×1
注:炉管、坩埚可按用户需求选配合适的款型

可选配件: 液晶触摸控制仪 全自动智能型水冷机

混气管式高真空PECVD系统
炉管尺寸 直径60mm
加热区长度 440mm(更多规格可按照客户要求定制)
正常工作温度 1100℃(可选)
最高温度 1200℃(最高可选1700℃)
加热元件 掺钼合金加热丝
温控精度 ±1℃(具有超温及断偶报警功能)
炉膛材质 采用日本进口炉膛材料,不掉粉、材料保温性能好、
反射率高、温场均衡,抗热涨冷缩能力强
控温方式 智能化30段可编程控制(用户可选配液晶触摸屏显示)
真空系统
高真空分子泵组,高真空复合真空计 前级泵2升每秒,分子泵600升每秒 采用KF25系列波纹管和真空挡板阀连接
质子流量计
高精度质量流量计可准确的控制气体流量 气体流量范围为0-500SCCm 误差为0.02% 出气真空压力表,内置气体混气系统, 不锈钢针阀计管道,标准双卡套接头
射频电源系统
输出功率 50-500W最大可调±1%
RF频率 13.56MHz,稳定性±0.005%
冷却 风冷
输入功率 1KW AC 220V
电气认证 CE认证
售后服务 12个月质保、终身保修
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