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PECVD实验室加热管式炉

PECVD实验室加热管式炉

PECVD实验室加热管式炉

PECVD实验室加热管式炉可达到1600℃,精密温度控制器将提供30段加热和冷却步骤,精度为+/- 1°C。

产品概述:
PECVD实验室加热管式炉可达到1600℃,精密温度控制器将提供30段加热和冷却步骤,精度为+/- 1°C。该炉系统还包括一个耐腐蚀的皮拉尼电容膜片式压力计,可对腐蚀性气体进行真空测量。

产品应用:
PECVD实验室加热管式炉通过微波或射频使含气体电离的薄膜形成气孔,在局部等离子体中形成,且等离子体化学活性很强,易于反应,在所希望的薄膜上沉淀出所需的薄膜,因此被广泛使用高质量的SiO2薄膜,金刚石薄膜,硬质薄膜,光学薄膜和CNT等。


产品特点:
1.上下部结构,易于取放管子 ;
2.可编程和PID自动控制 ;
3.金属按键或触摸屏操作界面供您选择

4.进口节能箱材料

5.炉膛采用双衬里结构,中间有间隙隔离,即使炉温高达1600,炉体表面仍可安全触摸;
6.炉内装有输出电压和输出电流检测表,可以看到实时加热状态  。

技术参数:
模型 PT-1200PECVD PT-1400PECVD PT-1700PECVD
最高 温度 1200 1400 1700
工作温度 1100 1300 1600
加热元件 钼电阻丝 碳化硅 MoSi2
热电偶 K型  S型 B型
管材 高纯石英 氧化铝 氧化铝
箱体材质 陶瓷纤维
加热速度 0-20
温度控制精度 +/- 1
温度均匀度 +/- 5
额定功率 110-415V,50 / 60Hz
等离子电源 200/300/500/1000瓦
气体控制 浮子流量计/质量流量计
真空单元 旋转叶片/扩散/涡轮分子泵
保证 一年有限保修(保修范围内的消耗品

可根据客户要求定做更多
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