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高真空PECVD系统

高真空PECVD系统

高真空PECVD系统

诺泰高真空PECVD系统是由管式炉,真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。系统主要应用于金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,石墨烯等生长。

产品概述:
   诺泰高真空PECVD系统是由管式炉,真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。系统主要应用于金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,石墨烯等生长。PECVD系统增加功能容易,可扩展等离子清洗刻蚀等功能,PECVD系统薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。

高真空PECVD系统主要特点

1.通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。

2.PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。

3.可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。

4.PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。

5.广泛应用于:各种薄膜的生长,如:SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。

技术参数:

产品名称

高真空PECVD系统

滑轨管式炉部分

产品型号

PT-T1200

炉管尺寸

Φ50mmX1600mm

炉管材质

石英管

加热区

300mm

工作温度

1100℃

最高温度

1200℃

温控方式

K型热电偶

控制方式

触屏控制,带独立摇臂,可以根据实际使用需求,调节温控屏的角度,使用更方便

控温精度

±1℃

温控保护

具有超温和断偶保护功能

升温速率

0-20ºC/min  ,建议10ºC/min

加热元件

含钼电阻丝

工作电压

AC 220V 单相 50HZ (电路电压用户可选择定制)

加热功率

3KW

炉膛材料

氧化铝多晶纤维

炉体结构

炉体带滑轨,可实现快速升温和降温

法兰接头

标配配有两个不锈钢真空法兰,已安装机械压力表和不锈钢截止阀

密封系统

该炉炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸,气密性好。

壳体

不锈钢壳体

选配

辅助降温风扇

                     真空系统部分

名称

真空系统

主要参数

1.采用进口安捷伦高真空分子泵组,极限真空度可达10-3pa

2.KF25快接,不锈钢波纹管,手动挡板阀与法兰,真空泵相连;

3.数字式真空显示,其测量范围为5×10-5- 1500mbar,测量精度高高

气路系统部分

名称

四路质量流量计

主要参数

四通道精密质量流量计:触屏控制,数字显示,自动控制。流量范围流量范围:

1.MFC 1-MFC4:0-1000sccm可调

2.一个混气罐

3.4个不锈钢针阀安装在供气系统的左侧,可手动控制4种气体;

4.进出气口:3进1出

流量控制:手动旋转式调节

连接方式:双卡套连接

等离子电源部分

名称

500W等离子电源

功率范围

0-500W(连续可调)

工作频率

13.56MHZ+0.005%

工作模式

连续输出

射频输出阻抗接口

N-type,female(50Ω)

功率稳定度

≤2W

最大反射功率

70W

电源保护设置

DC过流保护,功放过温保护,反射功率保护

供电电压/频率

单相交流(187V-253V)50-60HZ

冷却方式

风冷

整机尺寸

88X483X550 MM

整机重量

13.5KG

认证

ISO认证、CE认证

售后服务

质保一年,终身保修(耗材类:高温密封圈、炉管、加热元件等不属于质保范围)

高真空pecvd系统
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