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PECVD制备薄膜材料基本过程

PECVD制备薄膜材料基本过程

pecvd系统
一般说来,采用PECVD系统技术制备薄膜材料时, 薄膜的生长主要包含以下三个基本过程:
(一) 在非平衡等离子体中, 电子与反应气体发生初级反应, 使得反应气体发生分解, 形成离子和活性基团的混合物;
(二) 各种活性基团向薄膜生长表面和管壁扩散输运,同时发生各反应物之间的次级反应;
(三) 到达生长表面的各种初级反应和次级反应产物被吸附并与表面发生反应, 同时伴随有气相分子物的再放出。

郑州诺泰科技目前有混气管式PECVD系统、四路高温真CVD涂层设备、1200℃高温真空CVD涂层设备,等。有需求的欢迎到我们公司、工厂来参观!



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